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高強度黑光燈用于光刻機行業

作者:上海路陽時間:2020-12-02 10:24瀏覽329 次

信息摘要:

便攜式高強度黑光燈LUYOR-365L采用可充電的鋰電池供電,攜帶方便,能夠對光刻機的大型部件的每個部位進行檢測,LUYOR-3405臺式LED黑光燈采用臺式設計,高度和照射角度一定范圍內可任意調節,適合對光刻機的小部件以及光刻機的配套廠家進行大批量長時間檢測。目前,LUYOR-365L手電筒式黑光燈和LUYOR-3405臺式黑光燈被多家光刻機行業用戶認可和選購。

高強度黑光燈用于光刻機行業

生產光刻機的潔凈室對環境潔凈度要求特別高,光刻機的部件在生產和裝配時都需要控制particle,要確保每個部件上沒有particle,上海路陽生產的大功率LED黑光燈,能夠激發paiticle發出明亮藍色熒光,檢查人員在上海路陽的黑光燈下能夠檢測工件表面的有沒有particle存在。LUYOR-365L便攜式高強度手電筒式黑光燈采用可充電的鋰電池供電,攜帶方便,能夠對光刻機的大型部件的每個部位進行檢測,LUYOR-3405臺式LED高強度黑光燈采用臺式設計,高度和照射角度一定范圍內可任意調節,適合對光刻機的小部件以及光刻機的配套廠家進行大批量長時間檢測。目前,LUYOR-365L手電筒式黑光燈和LUYOR-3405臺式黑光燈被多家光刻機行業用戶認可和選購。

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光刻機的主要廠家有:

1.上海微電子裝備有限公司(SMEE)
上海微電成立于2002年3月,是我國國內唯一能夠做光刻機的企業。目前,最先進的光刻機是ASML的極紫外光刻(EUV),用于7nm、5nm光刻技術,對于EUV光刻關鍵技術,國外進行了嚴重的技術封鎖。我國在2017年,多個科研單位合作經過7年的潛心鉆研,突破了EUV關鍵技術。根據相關資料披露,計劃2030年實現EUV光刻機國產化。

上海微電子設備公司已生產出90納米的光刻機設備,這也是生產國產光刻機的最高技術水平,比ASML公司差不多有10年的差距。因為西方國家有簽協議,芯片核心部件材料不能出口到中國,實施封鎖政策,導致國產光刻機發展緩慢,上海微電子克服困難自己生產這些零部件。目前生產出來的光刻設備已用到很多的國產企業中,而且國家也在對封鎖進行聯合公關,相信不久就可以向45nm、28nm邁進。

光刻機

2.中科院光電所
中科院光電所研發出365納米波長,曝光分辨率達到22納米的光刻機,是近紫外的光線,離極紫外還有一點差距。光刻機的波長決定了芯片工藝的大小,波長越短,造價越高。像ASML最先進的EUV極紫外光刻機,波長只有13.5納米,可以生產10nm、7nm的芯片?,F在一般使用的是193納米波長的光刻機,分辨率卻只有38納米,而中科院研發的光刻機采用了雙重曝光的技術,可以達到22納米。不過相關專業人士也指出,這種技術只能做短周期的點線光刻,無法滿足芯片的復雜圖形,后續還在不斷優化和改進中。

3.合肥芯碩半導體有限公司
合肥芯碩半導體有限公司成立與2006年4月,是國內首家半導體直寫光刻設備制造商。該公司自主研發的ATD4000,已經實現最高200nm的量產。不過按照目前最新消息其已經申請破產清算,主要是光刻機對研發的投入資金是在太大,又沒有成熟的產品面向市場,終究難免面臨倒閉的風險。上海微電子也是通過快速占領光刻后道工藝技術,迅速占領國內80%市場份額,才得以生存。

4.無錫影速半導體科技有限公司
無錫影速成立于2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內子資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。該公司已經成功研制用于半導體領域的激光直寫/制版光刻設備,已經實現最高200nm的量產。

5.先騰光電科技有限公司
先騰光電成立于2013年4月,已經實現最高200nm的量產,在2014國際半導體設備及材料展覽會上,先騰光電亮出了完全自主知識產權的LED光刻機生產技術。

 


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